GaN基LED衬底材料化学机械抛光研究进展

• 作者: 储向峰 叶明富 熊伟 白林山 董永平
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 衬底材料 化学机械抛光 抛光工艺 抛光浆料
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 所属期刊栏目: 综述·专论
• 页码范围: 125-130
• 分类号: TN305.2
• 语种: 中文

摘要

概述了化学机械抛光作用机制,着重阐述了3种常见衬底(α-Al2O3,SiC,Si)的化学机械抛光现状,主要从抛光工艺参数和抛光液组成(不同磨料、磨料粒径、氧化剂、络合剂、pH值等)对晶片抛光效果的影响展开研究,并指出了目前化学机械抛光存在的问题,进一步展望了LED衬底化学机械抛光的发展前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	储向峰	安徽工业大学化学化工学院	59	209	6.0	11.0
2	董永平	安徽工业大学化学化工学院	45	183	7.0	11.0
3	白林山	安徽工业大学化学化工学院	60	293	10.0	14.0
4	叶明富	安徽工业大学化学化工学院	49	104	5.0	8.0
5	熊伟	安徽工业大学化学化工学院	5	67	4.0	5.0