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摘要:
分析了集成电路封装压焊工艺中引起铜线氧化而造成工艺不稳定的各种原因并提出了解决方法。从设备、制具、材料、工艺等方面,采用分析铜球形状的方法,研究了不同气体保护装置、气体流量、烧球参数等对铜线成球及氧化的影响;确定了防止铜线氧化的最有效措施及其他改善方法,并通过实验对比及生产跟踪证实了所述措施与方法的有效性。
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关键词热度
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文献信息
篇名 铜线压焊工艺防氧化问题研究
来源期刊 电子工艺技术 学科 工学
关键词 集成电路封装 铜线压焊工艺 烧球过程 球氧化
年,卷(期) 2014,(2) 所属期刊栏目 微组装 SMT PCB
研究方向 页码范围 94-97
页数 4页 分类号 TN305.1
字数 3034字 语种 中文
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1 周金成 9 8 2.0 2.0
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研究主题发展历程
节点文献
集成电路封装
铜线压焊工艺
烧球过程
球氧化
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工艺技术
双月刊
1001-3474
14-1136/TN
大16开
太原市115信箱
22-52
1980
chi
出版文献量(篇)
2306
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10
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