原文服务方: 工业水处理       
摘要:
超纯水系统中的电去离子(EDI)装置由于长时间运行会逐渐出现污堵,导致EDI装置不能正常运行和使用寿命缩短。通过对某公司EDI装置在长期运行下产生的污堵清洗方法和过程进行总结整理,为超纯水系统设备管理、EDI装置化学清洗及灭菌维护提供借鉴。
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灭菌
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半导体行业超纯水制造技术
半导体
超纯水
节能减排
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 超纯水系统EDI装置化学清洗及灭菌方法
来源期刊 工业水处理 学科
关键词 电去离子技术(EDI) 化学清洗 灭菌
年,卷(期) 2014,(5) 所属期刊栏目 经验交流
研究方向 页码范围 93-95,96
页数 4页 分类号 X703
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 郭银明 2 6 2.0 2.0
2 李为 5 6 2.0 2.0
3 段宏锋 2 6 2.0 2.0
4 雷阳 1 4 1.0 1.0
5 马珮 1 4 1.0 1.0
6 方正兴 2 4 1.0 2.0
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研究主题发展历程
节点文献
电去离子技术(EDI)
化学清洗
灭菌
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
工业水处理
月刊
1005-829X
12-1087/X
大16开
1981-01-01
chi
出版文献量(篇)
7763
总下载数(次)
0
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