稀磁半导体制备方法的研究进展

• 作者: 侯志青 刘东州 那木拉
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 稀磁半导体 制备方法 掺杂 居里温度 室温铁磁性
• 年，卷（期）: 2014,（4）
• 所属期刊栏目: 半导体材料
• 页码范围: 294-299
• 分类号: TN304.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.13290/j.cnki.bdtjs.2014.04.011

摘要

稀磁半导体(DMS)是一种新型功能材料,其结合了半导体和磁性材料的电学和磁学性质,具有优异的磁、磁光和磁电等性能,在未来的光电器件、自旋电子器件和计算机等领域具有广阔的开发应用前景.简述了我国稀磁半导体的研究成果及进展,重点讨论了稀磁半导体的制备合成方法,分析了各种制备方法的优缺点,包括分子束外延技术(MBE)、离子注入法、脉冲激光沉积(PLD)、助熔剂法、化学气相沉积(CVD)、溶胶-凝胶和水热法等.同时分析了目前稀磁半导体遇到的问题和困难,探讨了其解决方法,展望了稀磁半导体潜在的应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	侯志青	河北农业大学理学院	16	83	6.0	8.0
2	刘东州	河北农业大学理学院	12	44	5.0	6.0
3	那木拉	河北农业大学理学院	7	10	2.0	3.0