制备工艺参数对AZ31镁合金表面溅射TiAlN薄膜耐腐蚀性能的影响

• 作者: 彭佳 江四川 陈韦 黄佳木
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: TiAlN薄膜 磁控溅射 镁合金 腐蚀
• 年，卷（期）: 2014,（4）
• 所属期刊栏目: 结构薄膜
• 页码范围: 386-390
• 分类号: TG17
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2014.04.15

摘要

采用射频反应磁控溅射法在AZ31镁合金表面沉积了TiAlN薄膜.用场发射扫描电镜、电化学工作站研究分析了薄膜的表面形貌以及电化学性能,研究了铝靶溅射功率、钛靶溅射功率、氮气流量、沉积时间对TiAlN薄膜耐腐蚀性能的影响.结果表明实验所制备的TiAlN薄膜表面光滑、致密.当Al靶功率为50W,Ti靶功率为125 W,N2流量为30 mL/min(标准状态),沉积时间为8h时薄膜耐腐蚀性能最佳.薄膜腐蚀电流密度(4.321×10-7 A/cm2)比镁合金基体(1.066×10-5 A/cm2)降低了1个数量级以上,镁合金耐腐蚀性能得到较大提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄佳木	重庆大学国家镁合金材料工程技术研究中心	84	690	13.0	20.0
5	江四川	重庆大学材料科学与工程学院	2	8	2.0	2.0
6	陈韦	重庆大学材料科学与工程学院	1	3	1.0	1.0
7	彭佳	重庆大学材料科学与工程学院	4	18	3.0	4.0