背面夹缝曝光的光学模拟及其实验

• 作者: 朱军 陈翔
• 来源期刊: 上海交通大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 背面夹缝曝光 三维微结构 SU-8胶
• 年，卷（期）: 2014,（3）
• 页码范围: 367-371
• 分类号: TN305.7
• 语种: 中文

摘要

背面夹缝曝光是利用光学衍射效应来制备三维微结构的新方法.采用Matlab对曝光时间和夹缝对三维SU-8结构形貌的影响进行了模拟,并开展了相应的实验研究.结果表明:背面夹缝曝光是获得三维微结构的简便方法.模拟与实验揭示了相同的规律性,即微结构的侧壁倾斜角度取决于夹缝大小;当夹缝不变时,微结构的侧壁倾斜度不变,但微结构的大小随曝光时间而变化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱军	上海交通大学微纳科学技术研究院	52	663	14.0	25.0
2	陈翔	上海交通大学微纳科学技术研究院	35	224	9.0	12.0