BiInO3基压电膜的脉冲激光沉积法制备及其性能

• 作者: 唐佳伟 王伟 陈小兵
• 来源期刊: 扬州大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 脉冲激光沉积 铁电 压电
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 页码范围: 26-29
• 页数: 4页
• 分类号: O482.41
• 语种: 中文

摘要

以PbTiO3为模板,采用脉冲激光沉积(pulsed laser deposition,PLD)法制备了0.20BiInO3-0.80PbTiO3 (20BI-PT)高温压电薄膜.X射线衍射谱显示20BI-PT样品的[100]峰出现了明显的劈裂,表明样品具有更高的四方对称性.场发射扫描电镜照片显示20BI-PT样品中出现了部分[111]取向的三角形晶粒.20BI-PT样品的铁电剩余极化(Pr)为0.28C·m-2,矫顽场(Ec)为12 MV·m-1.20 BI-PT样品的横向压电系数(e31,f)为(-4.7±0.6)C·m-2.介电温度谱显示20BI-PT样品的居里温度达590℃,且介电峰没有明显的频率依赖性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈小兵		56	224	8.0	11.0
2	王伟		56	283	10.0	15.0
3	唐佳伟		2	0	0.0	0.0