硅片不同表面钝化工艺的稳定性研究

• 作者: 曾湘安 沈辉 艾斌 邓幼俊
• 来源期刊: 中山大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 表面钝化 稳定性 少子寿命 硅片
• 年，卷（期）: 2014,（3）
• 页码范围: 14-18
• 页数: 5页
• 分类号: TK514
• 字数: 2954字
• 语种: 中文

摘要

研究分析了热氧化钝化,用PECVD双面沉积SiNx∶H膜钝化以及碘酒钝化三种表面钝化工艺的稳定性,通过WT-2000少子寿命测试仪对采用这三种钝化工艺的单晶硅片,多晶硅片以及物理提纯硅片在暗条件不同储存时间的少子寿命进行测量,分析得到三种表面钝化工艺的效果以及稳定性.研究结果表明:碘酒钝化效果好,用PECVD双面沉积SiNx:H膜钝化和热氧化钝化稳定性好.