XG-501铬缸走位剂工艺在生产中的应用

• 作者: 应建军 胡长根
• 来源期刊: 电镀与环保
• 学科: 工学
• 关键词: XG-501铬缸走位剂 应用 转缸 效益
• 年，卷（期）: 2014,（2）
• 所属期刊栏目: 电镀
• 页码范围: 27-28
• 页数: 2页
• 分类号: TQ153
• 字数: 1992字
• 语种: 中文

摘要

由宜兴市星光陶瓷研究所研发的XG-501铬缸走位剂,是一种单一添加的走位剂.它具有主盐的质量浓度低、光亮范围宽、电流效率高、操作温度低但范围宽、沉积速率快、覆盖能力优良、杂质容忍度高等优点.原来没有添加过稀土添加剂或其他添加剂的镀铬液转缸方便,添加XG-501铬缸走位剂的镀液对工件有良好的活化作用,单一开缸及补充,使用极为方便,管理容易.