原文服务方: 辐射防护       
摘要:
在荧光X射线参考辐射场中,射线的强度和纯度会受到机械装置本身、辐射体厚度、次级过滤厚度、X光机管电压的影响.在优化设计参考辐射装置结构的基础上,通过理论分析计算和蒙特卡罗模拟,得到荧光强度和纯度随辐射体和次级过滤厚度的变化,并对X光机管电压对荧光强度和纯度的影响进行了测量.结果显示:F-Cs这一辐射质,当辐射体Cs2SO4的厚度大于490 μm时,荧光强度达到饱和;当次级过滤TeO2的厚度约为327 μm时,荧光纯度最高;荧光强度随X光机管电压的升高而增加,纯度随管电压的升高而降低.
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文献信息
篇名 荧光X射线参考辐射的优化
来源期刊 辐射防护 学科
关键词 荧光X射线 参考辐射 辐射体 次级过滤 管电压 MCNP
年,卷(期) 2014,(6) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 366-369,375
页数 分类号 O571|O434
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 丁亚东 中国科学院高能物理研究所 6 5 2.0 2.0
3 刘巧凤 2 7 2.0 2.0
4 魏可新 10 20 3.0 3.0
5 宋明哲 25 45 4.0 4.0
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研究主题发展历程
节点文献
荧光X射线
参考辐射
辐射体
次级过滤
管电压
MCNP
研究起点
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相关学者/机构
期刊影响力
辐射防护
双月刊
1000-8187
14-1143/TL
大16开
1976-01-01
chi
出版文献量(篇)
1610
总下载数(次)
0
总被引数(次)
7994
论文1v1指导