电容触摸屏ITO消影膜的设计与制备

• 作者: 吴永俊 李成 杨玮枫 欧阳艳东 黄翀
• 来源期刊: 光电子技术
• 学科: 物理学
• 关键词: ITO玻璃 反射率 消影膜 Nb2O5 SiO2 光学薄膜
• 年，卷（期）: 2014,（4）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 269-272,277
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 2571字
• 语种: 中文

摘要

设计光学薄膜改善ITO图案,匹配出各个膜层合适的物理厚度,采用直流磁控溅射和双靶中频反应磁控溅射制备ITO消影膜.经过对样品的测试和实际效果对比,证明了所设计的ITO消影膜不仅能有效改善ITO图案明显的问题,在可见光范围内还可以使透过率变均匀,提高显示效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄翀	汕头大学理学院	64	371	11.0	15.0
2	欧阳艳东	汕头大学理学院	52	293	10.0	13.0
3	吴永俊		38	190	6.0	12.0
4	杨玮枫	汕头大学理学院	10	15	3.0	3.0
5	李成	汕头大学理学院	1	4	1.0	1.0