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摘要:
结合当前国内外石墨烯改性的研究进展,分别从表面改性和电子性能改性两个方面介绍了石墨烯的改性方法.其中,石墨烯表面改性包括共价键功能化和非共价键功能化;石墨烯电子性能改性包括掺杂和离子轰击.讨论了各种改性方法的优缺点,并在原有改性方法的基础上,展望了未来石墨烯改性的发展方向.
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文献信息
篇名 石墨烯改性研究进展
来源期刊 电子元件与材料 学科 化学
关键词 石墨烯 改性 综述 共价键功能化 非共价键功能化 掺杂 离子轰击
年,卷(期) 2014,(3) 所属期刊栏目 综述
研究方向 页码范围 1-4
页数 4页 分类号 O613.71
字数 4869字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-2028.2014.03.001
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 谢泉 贵州大学电子信息学院新型光电子材料与技术研究所 133 486 12.0 17.0
2 覃信茂 贵州大学材料与冶金学院 1 30 1.0 1.0
3 谢卓成 贵州大学材料与冶金学院 2 32 2.0 2.0
传播情况
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引文网络
引文网络
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2020(5)
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研究主题发展历程
节点文献
石墨烯
改性
综述
共价键功能化
非共价键功能化
掺杂
离子轰击
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子元件与材料
月刊
1001-2028
51-1241/TN
大16开
成都市一环路东二段8号宏明商厦702室
62-36
1982
chi
出版文献量(篇)
5158
总下载数(次)
16
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