半导体纳米线制备中干法刻蚀技术的研究

• 作者: 邹坤 邹继军 郭栋
• 来源期刊: 电子质量
• 学科: 工学
• 关键词: 一维纳米结构 纳米线 尺寸 干法刻蚀技术
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 所属期刊栏目: 专业测试
• 页码范围: 20-21
• 页数: 2页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 902字
• 语种: 中文

摘要

近年来,一维纳米结构:纳米管、纳米线、纳米带等,引起了人们的广泛关注.如何制备高质量的纳米结构依然是我们面临的巨大挑战.该文通过干法刻蚀技术制备的纳米线阵列来突出说明该技术今后的发展是多样化的,而且仍然方兴未艾.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邹继军		47	244	10.0	14.0
2	郭栋		1	1	1.0	1.0
3	邹坤		1	1	1.0	1.0