DMD无掩模光刻机主控软件系统的设计

• 作者: 何渝 冯金花 李艳丽 胡松
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 无掩模光刻 数字光刻 数据管理 调焦 对准
• 年，卷（期）: 2014,（10）
• 所属期刊栏目: 加工、测量与设备
• 页码范围: 673-678
• 分类号: TP319|TN305.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.13250/j.cnki.wndz.2014.10.010

摘要

根据无掩模光刻机的整体结构和工作流程,开发了一款适用于DMD无掩模光刻机的曝光软件.对系统进行了整合,运用开发环境VS2010实现了各个独立的模块的设计.通过串口通信的方式与下位机建立连接,实现对工件台的控制;依托Access2007创建数据库,管理曝光数据及工艺文件;采用图像处理算法和坐标转换技术,实现了曝光过程中的实时自动调焦和套刻对准功能,具有良好的人机交互界面.实验结果表明,软件界面设计友好,上、下位机数据传输稳定,能对工艺文件和曝光实验数据进行管理;上位机软件实现的自动调焦和自动对准功能具有很好的稳定性和可靠性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡松	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	93	705	12.0	24.0
2	李艳丽	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	13	65	4.0	8.0
3	冯金花	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	2	2	1.0	1.0
4	何渝	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	8	2	1.0	1.0