X射线吸收精细结构技术在高分子及相关材料中的应用

• 作者: 吴忠华 王佳怡 蒋世春 郭慧龙
• 来源期刊: 高分子学报
• 关键词: 高分子材料 XAFS 原子结构
• 年，卷（期）: 2014,（2）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 179-187
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1105.2014.13303

摘要

高分子材料由于其优异的物理和化学性能应用范围非常广泛,而同步辐射光源的发展大大提高了X射线吸收精细结构(XAFS)技术的使用.本文介绍了XAFS包括扩展X射线吸收精细结构(EXAFS)和X射线吸收近边结构(XANES)的实验原理和实验手段,综述了同行利用XAFS技术在常见高分子、有机金属高分子、钯掺杂高分子、离聚物及碳基材料等高分子领域的结构研究进展,展示了XAFS技术在高分子及其相关材料领域的重要作用和分析方法,体现了XAFS技术的优势和特点,并对XAFS技术在高分子及相关材料方面的应用进行了展望.随着同步辐射技术的发展和提高,XAFS技术在高分子领域的应用将会进一步拓展和提升.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴忠华		34	146	8.0	10.0
2	蒋世春	天津大学材料学院	6	21	3.0	4.0
3	郭慧龙	天津大学材料学院	2	11	2.0	2.0
4	王佳怡		1	5	1.0	1.0