CH 4/N 2在炭分子筛上的吸附平衡与扩散模型

• 作者: 刘晓勤 王鹏 石耀琦 马正飞
• 来源期刊: 高校化学工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: CH4 N2 炭分子筛 吸附等温线 扩散模型 Double Langmuir模型
• 年，卷（期）: 2014,（3）
• 所属期刊栏目: 传递现象与单元操作
• 页码范围: 484-488
• 页数: 5页
• 分类号: TQ028.15
• 字数: 3259字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-9015.2014.05.14.03

摘要

使用高精密质量吸附仪(IGA-100，HIDEN)测定了CH4和N2纯组分在炭分子筛上于298、313和328 K温度下的吸附等温线及吸附动力学曲线，研究了CH4和N2在炭分子上的吸附热力学及动力学性质。选择Double Langmuir模型(DL)对吸附等温线数据进行了模拟；选择Fick扩散模型进行了吸附动力学的模拟。结果表明，DL模型可以准确地描述CH4和N2在炭分子筛上的吸附，拟合相关系数都非常接近1，N2在该炭分子筛上的吸附量大于CH4的吸附量；通过Fick扩算模型计算得：24N CH/7.26D D =，N 2在该炭分子筛上的扩散速率大于CH 4，所以该炭分子筛可以实现固定床出口直接富集CH4的目的。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马正飞	南京工业大学化学化工学院材料化学工程国家重点实验室	108	1134	16.0	27.0
2	刘晓勤	南京工业大学化学化工学院材料化学工程国家重点实验室	158	2045	24.0	36.0
3	王鹏	南京工业大学化学化工学院材料化学工程国家重点实验室	22	138	8.0	11.0
4	石耀琦	南京工业大学化学化工学院材料化学工程国家重点实验室	1	10	1.0	1.0