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摘要:
采用射频等离子增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术,在较高的射频功率和沉积气压条件下,通过改变硅烷浓度和衬底温度等参数,以Corning7059玻璃为衬底制备微晶硅薄膜材料.通过拉曼光谱和光暗电导的测试等方法对薄膜特性进行了表征,研究了沉积参数对微晶硅薄膜材料的微结构以及光电特性的影响,并讨论了它们的相关性.解释了结构与光电特性的变化规律,以表面扩散的机理讨论了结晶过程.实验表明,硅烷浓度和衬底温度这两个参数对于微晶硅薄膜材料的微结构及其光电特性具有重要影响,而且参数之间存在匹配关系.
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文献信息
篇名 微晶硅薄膜材料的沉积以及微结构与光电特性的研究
来源期刊 真空科学与技术学报 学科 物理学
关键词 微晶硅薄膜 射频等离子体增强化学气相沉积 微结构 光电特性
年,卷(期) 2014,(2) 所属期刊栏目 功能薄膜
研究方向 页码范围 158-162
页数 分类号 O484
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1672-7126.2014.02.12
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 周炳卿 内蒙古师范大学物理与电子信息学院功能材料物理与化学自治区重点实验室 45 134 6.0 8.0
2 李海泉 内蒙古师范大学物理与电子信息学院功能材料物理与化学自治区重点实验室 9 21 3.0 4.0
3 张丽丽 内蒙古师范大学物理与电子信息学院功能材料物理与化学自治区重点实验室 11 27 3.0 4.0
4 张林睿 内蒙古师范大学物理与电子信息学院功能材料物理与化学自治区重点实验室 16 48 4.0 5.0
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研究主题发展历程
节点文献
微晶硅薄膜
射频等离子体增强化学气相沉积
微结构
光电特性
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
真空科学与技术学报
月刊
1672-7126
11-5177/TB
大16开
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
1981
chi
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