高锰酸钾溶液对核径迹敏化新现象的研究

• 作者: 傅元勇 刘义保 吴振东 周密 梁海英 陈东风 鞠薇 魏强林
• 来源期刊: 核技术
• 学科: 工学
• 关键词: 高锰酸钾溶液 径迹蚀刻速率 基体蚀刻速率 半锥角
• 年，卷（期）: 2014,（3）
• 所属期刊栏目: 核物理与交叉学科研究
• 页码范围: 50-53
• 页数: 4页
• 分类号: TL99
• 字数: 1663字
• 语种: 中文

摘要

利用电导法研究高锰酸钾溶液预处理对聚对苯二甲酸乙二酯膜(PET)蚀刻速率的影响,用不同浓度的高锰酸钾溶液预处理1h、2h、3h、4h、5h、6h,径迹蚀刻速率在2h时达到峰值,之后随预处理时间的增长而下降,基体蚀刻速率随预处理时间的增长而变小,半锥角随预处理时间增长而减小.在0.1 mol·L-1高锰酸钾溶液中分别加入5％、15％、25％、35％的2 mol·L-1硫酸溶液,实验结果表明,酸性高锰酸钾对径迹蚀刻速率影响较小,基体蚀刻速率随硫酸量的增加而变大,半锥角也相应地增大.另外,电导法中所用的直流电压大小对径迹蚀刻速率也有影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘义保	东华理工大学研究生院	80	338	10.0	15.0
2	魏强林	东华理工大学研究生院	33	90	5.0	8.0
3	陈东风	中国原子能科学研究院核物理研究所	83	193	7.0	11.0
4	吴振东	中国原子能科学研究院核物理研究所	22	28	3.0	4.0
5	傅元勇	中国原子能科学研究院核物理研究所	11	5	1.0	1.0
6	鞠薇	中国原子能科学研究院核物理研究所	7	3	1.0	1.0
7	周密	中国原子能科学研究院核物理研究所	2	1	1.0	1.0