新型PSVA像素结构中液晶配向的研究

• 作者: 吴欲志 李佳育 罗长诚 赵锋 连水池 邓竹明 邱钟毅
• 来源期刊: 光电子技术
• 关键词: 液晶配向 沟槽深度 像素结构
• 年，卷（期）: 2014,（4）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 226-229,233
• 页数: 5页
• 字数: 2024字
• 语种: 中文

摘要

研究了一种新型的PSVA(聚合物稳定垂直配向)像素结构,与传统的的像素结构相比,该新型结构具有更高的穿透率.钝化(Passivation,PV)层的沟槽深度是新型像素结构中的一个关键参数,液晶的方位角和倾斜角与沟槽深度具有很强的相关性.通过模拟和实验研究了液晶的在该结构中的配向行为.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邱钟毅		2	0	0.0	0.0
2	李佳育		2	0	0.0	0.0
3	邓竹明		1	0	0.0	0.0
4	赵锋		1	0	0.0	0.0
5	吴欲志		1	0	0.0	0.0
6	罗长诚		1	0	0.0	0.0