化学镀铜溶液中稳定剂的研究

• 作者: 孔德龙 李宁 肖宁 范小玲 谢金平 黎德育
• 来源期刊: 电镀与精饰
• 学科: 工学
• 关键词: 化学镀铜 四羟丙基乙二胺 稳定剂 沉积速率
• 年，卷（期）: 2014,（3）
• 所属期刊栏目: 论文
• 页码范围: 5-9
• 页数: 5页
• 分类号: TQ153.3
• 字数: 2904字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3849.2014.03.002

摘要

对四羟丙基乙二胺和EDTA双络合剂化学镀铜溶液稳定剂进行研究.用高温大负载施镀实验进行初步筛选,研究了筛选出的稳定剂对沉积速率、镀液稳定性及镀层的影响.结果表明,亚硫酸钠和吐温-60能提高镀液稳定性并能获得较好的镀层.将亚硫酸钠与吐温-60进行组合,可提高镀液稳定性,沉积速率可达7.29 μm/h.用线性扫描和交流阻抗的方法对亚硫酸钠和吐温-60提高镀液稳定性的机理进行研究,结果表明,亚硫酸钠主要是与Cu+形成稳定的配合物,而吐温-60则是与Cu0吸附并使其失去催化活性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李宁	哈尔滨工业大学化工学院	286	2937	25.0	36.0
2	黎德育	哈尔滨工业大学化工学院	125	1230	18.0	27.0
3	谢金平		41	129	6.0	7.0
4	范小玲		24	71	5.0	6.0
5	孔德龙	哈尔滨工业大学化工学院	8	16	1.0	4.0
6	肖宁	哈尔滨工业大学化工学院	3	19	2.0	3.0