快速晶闸管通态特性的改善

• 作者: 刘国辉 田石
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 快速晶闸管 通态特性 镓铝双质掺杂 杂质浓度分布 注入比
• 年，卷（期）: 2014,（3）
• 所属期刊栏目: 半导体器件
• 页码范围: 188-192
• 分类号: TN34
• 语种: 中文
• DOI: 10.13290/j.cnki.bdtjs.2014.03.006

摘要

从协调快速晶闸管主要参数之间矛盾关系、降低功率损耗以及并联均流应用等方面,论述了改善快速晶闸管通态特性的重要意义.在影响晶闸管通态压降的主要因素中,着重分析了提高晶闸管j3结的注入比降低通态压降的机理.为获得比较理想的杂质浓度分布,增大j3结两侧杂质浓度的比值,在快速晶闸管的制造中,p型扩散工艺采用了固态源闭管式镓铝双质掺杂技术.研究结果表明:采用该技术制造的快速晶闸管,通态基本特性参数具有较好的一致性,通态压降明显降低,通态特性明显改善,关断时间与通态压降的关系也得到了合理的协调,提高了器件的综合电气性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘国辉		4	5	1.0	2.0
2	田石		3	5	1.0	2.0