甲基苯基二甲氧基硅烷含量对光固化有机硅/SiO2杂化涂层性能的影响

• 作者: 刘光明 徐佩柔 曹祖军 杨晓东
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 溶胶-凝胶 有机硅/SiO2杂化涂层 光固化 耐热性 耐蚀性
• 年，卷（期）: 2014,（2）
• 所属期刊栏目: 研究与探索
• 页码范围: 60-65
• 分类号: TG174.462
• 语种: 中文

摘要

目的 获得耐热性和耐蚀性好,且可紫外光固化的有机硅/SiO2杂化涂层,研究甲基苯基二甲氧基硅烷(PDMS)含量对涂层性能的影响.方法 以正硅酸乙酯(TEOS)为SiO2前驱物,PDMS与γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷(KH-570)为有机硅前驱物,采用溶胶-凝胶法制备PDMS含量不同的有机硅/SiO2杂化溶胶,经光固化后,得到有机硅/SiO2杂化涂层.对涂层进行机械性能测试,以及红外光谱分析、热重分析和电化学阻抗谱分析.结果 前驱物均水解完毕并发生缩合反应,从而得到了有机硅/SiO2杂化涂层;随着PDMS含量的增加,杂化涂层的硬度降低,耐冲击性、柔韧性和附着力良好且变化不大.结论 PDMS的加入有利于提高涂层的综合性能,当n(TEOS)∶n(PDMS)∶n(KH-570)=15∶16∶7时,有机硅/SiO2杂化涂层的耐热和耐蚀性能达到最佳.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘光明	南昌航空大学材料科学与工程学院	74	354	9.0	16.0
2	杨晓东	南昌航空大学材料科学与工程学院	5	21	3.0	4.0
3	曹祖军	南昌航空大学材料科学与工程学院	3	14	2.0	3.0
4	徐佩柔	南昌航空大学材料科学与工程学院	2	7	2.0	2.0