工艺参数对CrNx涂层膜基结合力的影响

• 作者: 宋慧瑾 鄢强
• 来源期刊: 成都大学学报（自然科学版）
• 关键词: 膜基结合力 CrNx涂层 工艺参数 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 所属期刊栏目: 现代制造技术
• 页码范围: 61-63
• 页数: 3页
• 分类号: TB43
• 语种: 中文

摘要

采用直流磁控溅射技术制备了CrNx涂层,研究了工艺参数对所制备的CrNx涂层膜基结合力的影响.实验结果表明:N2含量较低时,膜基结合力较好,涂层表面光滑.只加脉冲偏压时,偏压越大,熔滴越大,表面越粗糙.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋慧瑾	成都大学工业制造学院	40	54	4.0	5.0
2	鄢强	西南石油大学机电工程学院	6	7	2.0	2.0