钛学术
文献服务平台
学术出版新技术应用与公共服务实验室出品
首页
论文降重
免费查重
学术期刊
任务中心
登录
文献导航
学科分类
>
综合
工业技术
科教文艺
医药卫生
基础科学
经济财经
社会科学
农业科学
哲学政法
社会科学II
哲学与人文科学
社会科学I
经济与管理科学
工程科技I
工程科技II
医药卫生科技
信息科技
农业科技
数据库索引
>
中国科学引文数据库
工程索引(美)
日本科学技术振兴机构数据库(日)
文摘杂志(俄)
科学文摘(英)
化学文摘(美)
中国科技论文统计与引文分析数据库
中文社会科学引文索引
科学引文索引(美)
中文核心期刊
cscd
ei
jst
aj
sa
ca
cstpcd
cssci
sci
cpku
默认
篇关摘
篇名
关键词
摘要
全文
作者
作者单位
基金
分类号
搜索文章
搜索思路
钛学术文献服务平台
\
学术期刊
\
工业技术期刊
\
无线电电子学与电信技术期刊
\
半导体技术期刊
\
基于Ti/Pt/Au欧姆接触金属系统的InP基HEMT器件
基于Ti/Pt/Au欧姆接触金属系统的InP基HEMT器件
作者:
于宗光
李海鸥
黄伟
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
磷化铟
高电子迁移率晶体管(HEMT)
欧姆接触
钛/铂/金
化合物半导体
摘要:
应用钛/铂/金(Ti/Pt/Au)金属系统在InP基HEMT制备工艺中形成了良好的欧姆接触,通过优化合金条件,获得了较低的欧姆接触电阻,并在此基础上对钛/铂/金欧姆接触形成机理进行了深入讨论.实验结果表明:在氮气气氛下进行温度300℃/30 s快速热退火后,得到欧姆接触最小电阻值为0.025 Ω·mm.同时合金界面形态良好.制备出栅长1.0 μm的InP基HEMT器件,测试结果表明器件具有良好的DC和RF特性,器件最大跨导(Gmmax)为672 mS/mm.饱和源漏电流IDSS为900 mA/mm,阈值电压为-0.8V,单一的电流增益截止频率(fT)为40 GHz,最大晶振fmax为45 GHz.
暂无资源
收藏
引用
分享
推荐文章
InAs/AlSb异质结的Pd/Ti/Pt/Au合金化欧姆接触
欧姆接触
快速热退火
InAs/AlSb异质结
Ti/Al/Ti/Au与AlGaN欧姆接触特性
AlGaN
Ti/Al/Ti/Au
欧姆接触
具有低欧姆接触电阻的高性能AlGaN/GaN HEMT器件研制
AlGaN/GaN HEMT
欧姆接触
跨导
输出功率密度
GaN HEMT欧姆接触模式对电学特性的影响
AlGaN/GaN
高迁移率电子晶体管
欧姆接触
内容分析
文献信息
引文网络
相关学者/机构
相关基金
期刊文献
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数
(/次)
(/年)
文献信息
篇名
基于Ti/Pt/Au欧姆接触金属系统的InP基HEMT器件
来源期刊
半导体技术
学科
工学
关键词
磷化铟
高电子迁移率晶体管(HEMT)
欧姆接触
钛/铂/金
化合物半导体
年,卷(期)
2014,(3)
所属期刊栏目
半导体器件
研究方向
页码范围
179-182,192
页数
分类号
TN386
字数
语种
中文
DOI
10.13290/j.cnki.bdtjs.2014.03.004
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
于宗光
中国电子科技集团公司第五十八研究所
140
722
12.0
22.0
2
黄伟
中国电子科技集团公司第五十八研究所
33
50
4.0
4.0
3
李海鸥
中国电子科技集团公司第五十八研究所
28
36
2.0
5.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献
(14)
共引文献
(6)
参考文献
(7)
节点文献
引证文献
(2)
同被引文献
(6)
二级引证文献
(1)
1979(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
1980(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
1981(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
1982(2)
参考文献(1)
二级参考文献(1)
1983(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
1985(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
1989(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2000(2)
参考文献(0)
二级参考文献(2)
2001(2)
参考文献(0)
二级参考文献(2)
2003(3)
参考文献(1)
二级参考文献(2)
2005(2)
参考文献(1)
二级参考文献(1)
2006(2)
参考文献(1)
二级参考文献(1)
2008(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2013(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2014(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
2018(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2019(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2020(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
磷化铟
高电子迁移率晶体管(HEMT)
欧姆接触
钛/铂/金
化合物半导体
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1003-353X
CN:
13-1109/TN
开本:
大16开
出版地:
石家庄179信箱46分箱
邮发代号:
18-65
创刊时间:
1976
语种:
chi
出版文献量(篇)
5044
总下载数(次)
38
期刊文献
相关文献
1.
InAs/AlSb异质结的Pd/Ti/Pt/Au合金化欧姆接触
2.
Ti/Al/Ti/Au与AlGaN欧姆接触特性
3.
具有低欧姆接触电阻的高性能AlGaN/GaN HEMT器件研制
4.
GaN HEMT欧姆接触模式对电学特性的影响
5.
n-GaN基Ti/Al/Ni/Au的欧姆接触高温特性
6.
退火参数对p-Si与Ti/Pt/Au欧姆接触的影响
7.
多层Ti/Al电极结构对GaN/AlGaN HEMT欧姆接触特性的影响
8.
Ti与Al比例及退火温度对AlGaN/GaN HEMT欧姆接触影响
9.
非故意掺杂GaN上Ti/Al/Ni/Au欧姆接触研究
10.
Ti/Al/Ni/Au与n型GaN的欧姆接触研究
11.
AlGaN/GaN HEMT器件的研制
12.
金属/n型AlGaN欧姆接触
13.
AlGaN/GaN HEMT器件的高温特性
14.
太赫兹InP HEMT器件的建模
15.
锯齿型源漏结构的新型InP基HEMT器件
推荐文献
钛学术
文献服务平台
学术出版新技术应用与公共服务实验室出品
首页
论文降重
免费查重
学术期刊
任务中心
登录
根据相关规定,获取原文需跳转至原文服务方进行注册认证身份信息
完成下面三个步骤操作后即可获取文献,阅读后请
点击下方页面【继续获取】按钮
钛学术
文献服务平台
学术出版新技术应用与公共服务实验室出品
原文合作方
继续获取
获取文献流程
1.访问原文合作方请等待几秒系统会自动跳转至登录页,首次访问请先注册账号,填写基本信息后,点击【注册】
2.注册后进行实名认证,实名认证成功后点击【返回】
3.检查邮箱地址是否正确,若错误或未填写请填写正确邮箱地址,点击【确认支付】完成获取,文献将在1小时内发送至您的邮箱
*若已注册过原文合作方账号的用户,可跳过上述操作,直接登录后获取原文即可
点击
【获取原文】
按钮,跳转至合作网站。
首次获取需要在合作网站
进行注册。
注册并实名认证,认证后点击
【返回】按钮。
确认邮箱信息,点击
【确认支付】
, 订单将在一小时内发送至您的邮箱。
*
若已经注册过合作网站账号,请忽略第二、三步,直接登录即可。
期刊分类
期刊(年)
期刊(期)
期刊推荐
一般工业技术
交通运输
军事科技
冶金工业
动力工程
化学工业
原子能技术
大学学报
建筑科学
无线电电子学与电信技术
机械与仪表工业
水利工程
环境科学与安全科学
电工技术
石油与天然气工业
矿业工程
自动化技术与计算机技术
航空航天
轻工业与手工业
金属学与金属工艺
半导体技术2022
半导体技术2021
半导体技术2020
半导体技术2019
半导体技术2018
半导体技术2017
半导体技术2016
半导体技术2015
半导体技术2014
半导体技术2013
半导体技术2012
半导体技术2011
半导体技术2010
半导体技术2009
半导体技术2008
半导体技术2007
半导体技术2006
半导体技术2005
半导体技术2004
半导体技术2003
半导体技术2002
半导体技术2001
半导体技术2000
半导体技术1999
半导体技术2014年第9期
半导体技术2014年第8期
半导体技术2014年第7期
半导体技术2014年第6期
半导体技术2014年第5期
半导体技术2014年第4期
半导体技术2014年第3期
半导体技术2014年第2期
半导体技术2014年第12期
半导体技术2014年第11期
半导体技术2014年第10期
半导体技术2014年第1期
关于我们
用户协议
隐私政策
知识产权保护
期刊导航
免费查重
论文知识
钛学术官网
按字母查找期刊:
A
B
C
D
E
F
G
H
I
J
K
L
M
N
O
P
Q
R
S
T
U
V
W
X
Y
Z
其他
联系合作 广告推广: shenyukuan@paperpass.com
京ICP备2021016839号
营业执照
版物经营许可证:新出发 京零 字第 朝220126号