氮气流量对复合离子镀TiAlN薄膜性能的影响

• 作者: 刘野 李云珂 程芳 薛利 许世鹏 黄美东
• 来源期刊: 天津师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 电弧离子镀 磁控溅射 TiAlN薄膜 氮气流量 晶体结构 表面形貌 硬度
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 页码范围: 38-41
• 页数: 4页
• 分类号: TN919
• 字数: 3255字
• 语种: 中文

摘要

利用电弧离子镀和磁控溅射相结合的复合镀技术,在300V偏压、不同氮气流量下制备了一系列TiAlN薄膜.利用XP-2台阶仪、XRD、SEM和纳米力学测试系统分别对薄膜的沉积速率、晶体结构、表面形貌、硬度和弹性模量等进行测试和分析.实验结果表明:随着氮气流量的增大,薄膜的表面质量逐渐提高,薄膜的硬度和弹性模量均随氮气流量的增大呈现出先增加后减小的变化趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄美东	天津师范大学物理与材料科学学院	56	185	7.0	10.0
2	刘野	天津师范大学物理与材料科学学院	10	48	5.0	6.0
3	许世鹏	天津师范大学物理与材料科学学院	5	30	5.0	5.0
4	薛利	天津师范大学物理与材料科学学院	6	33	5.0	5.0
5	李云珂	天津师范大学物理与材料科学学院	6	50	5.0	6.0
6	程芳	天津师范大学物理与材料科学学院	4	25	3.0	4.0