全自动光刻版清洗机介绍

• 作者: 宋文超
• 来源期刊: 清洗世界
• 学科: 工学
• 关键词: 半导体 光刻版清洗 单晶圆清洗 自动设备
• 年，卷（期）: 2014,（2）
• 所属期刊栏目: 新技术、新工艺
• 页码范围: 37-41
• 页数: 5页
• 分类号: TN405
• 字数: 2955字
• 语种: 中文

摘要

介绍了中国电子科技集团公司第四十五研究所研制的全自动光刻版清洗机的工艺原理和工作过程.该设备自用户投入使用以来,大量的产品证明,采用全自动光刻版清洗机对光刻版进行清洗,光刻版洁净度高,工艺效果理想,工艺参数稳定,自动化程度高,批量处理能力强,可以广泛用于工业生产中.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋文超	中国电子科技集团公司第四十五研究所	17	18	2.0	4.0