纳米碳化硅表面修饰的工艺研究及结构表征

• 作者: 乔春玉 刘辉 原小寓 宿辉 崔旭光 曹茂盛 王晓丹 胡明星
• 来源期刊: 电镀与精饰
• 学科: 工学
• 关键词: (SiC)p微粒 核壳结构 Ni 化学镀 结构表征
• 年，卷（期）: 2014,（4）
• 所属期刊栏目: 论文
• 页码范围: 5-8,37
• 页数: 5页
• 分类号: TQ153.2
• 字数: 1999字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3849.2014.04.002

摘要

针对(SiC)p纳米微粒在应用中存在的易团聚、材料间相容性差等关键技术问题,采用化学镀方法对(SiC)p纳米微粒进行了表面修饰.设计了实验方案,优化了工艺参数.实验结果表明,预处理过程、镀液的温度、pH等对修饰效果影响较大.确定适合的工艺参数,镀液θ为45℃、pH为9.0.电子显微镜、能谱仪等仪器表征显示,修饰后的SiC微粒近球形,形貌均匀,有明显的核、壳部分,核壳处不同的衬度表明(SiC)p微粒表面沉积了较多的金属Ni,形成了碳化硅-镍核壳结构复合粒子.