SAT与SST在半导体清洗工艺中的应用

• 作者: 关宏武 冯小强 宋伟峰 段成龙 舒福璋
• 来源期刊: 清洗世界
• 学科: 工学
• 关键词: SAT SST 刻蚀 去胶
• 年，卷（期）: 2014,（2）
• 所属期刊栏目: 实用技术
• 页码范围: 8-10,19
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.97
• 字数: 2981字
• 语种: 中文

摘要

针对芯片制造商对设备低投入高产出的要求,介绍了能将多种工艺集成在一起的工作台SAT(喷酸系统)与SST(喷雾溶剂系统),详细介绍了其工作原理及特点,并与清洗机+甩干机传统清洗及刻蚀方式进行了详细对比,根据厂商实际使用效果,可以看出这两种集成工作台可以有效降低成本,提高生产效率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	关宏武	中国电子科技集团公司第四十五研究所第二事业部	9	29	1.0	5.0
2	冯小强	中国电子科技集团公司第四十五研究所第二事业部	12	9	2.0	3.0
3	段成龙	中国电子科技集团公司第四十五研究所第二事业部	8	35	2.0	5.0
4	宋伟峰	中国电子科技集团公司第四十五研究所第二事业部	6	31	2.0	5.0
5	舒福璋	中国电子科技集团公司第四十五研究所第二事业部	8	38	2.0	6.0