脉冲偏压占空比对TiN/TiAlN多层薄膜微观结构和硬度的影响

• 作者: 冯宪章 张艳霞 文振华 蒋志强 魏永强
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: TiN/TiAlN 电弧离子镀 纳米硬度 微观结构 脉冲偏压占空比
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与探索
• 页码范围: 1-6,39
• 分类号: TG174.444
• 语种: 中文

摘要

目的 研究脉冲偏压占空比对TiN/TiAlN多层薄膜微观结构和硬度的影响规律.方法 利用脉冲偏压电弧离子镀的方法,改变脉冲偏压占空比,在M2高速钢表面制备5种TiN/TiAlN多层薄膜,对比研究了薄膜的微观结构、元素成分、相结构和硬度的变化规律.结果 TiN/TiAlN多层薄膜表面出现了电弧离子镀制备薄膜的典型生长形貌,随着脉冲偏压占空比的增加,薄膜表面的大颗粒数目明显减少.此外,脉冲偏压占空比的增加还引起多层薄膜中Al/Ti原子比的降低.结论 TiN/TiAlN多层薄膜主要以(111)晶面择优取向生长,此外还含有(311),(222)和(200)晶相结构.5种多层薄膜的纳米硬度均在33GPa以上,当脉冲偏压占空比为20％时,可实现超硬薄膜的制备.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋志强	郑州航空工业管理学院机电工程学院	98	734	11.0	24.0
3	文振华	郑州航空工业管理学院机电工程学院	31	91	6.0	9.0
5	张艳霞	郑州信息科技职业学院机电工程系	5	14	2.0	3.0
6	魏永强	郑州航空工业管理学院机电工程学院	16	57	4.0	7.0