调制比对TiN/Ti多层膜结构和力学性能的影响

• 作者: 杜菲菲 杨波 肖娜
• 来源期刊: 材料与冶金学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 反应磁控溅射 TiN/Ti 调制比 结合力
• 年，卷（期）: 2014,（4）
• 所属期刊栏目: 材料
• 页码范围: 276-279,311
• 页数: 5页
• 分类号: O484.2
• 字数: 2259字
• 语种: 中文

摘要

采用反应磁控溅射的方法在Ti6Al4V基板上沉积(TiN/Ti)n多层膜,交替沉积Ti层和TiN层,以通入/关闭氮气实现对TiN含量的控制.共溅射10层,每层TiN膜和Ti膜的厚度之和即调制周期不变,二者之间的厚度比即调制比分别为1:9、1:5、1:3和1:2.利用XRD、SEM分别研究了薄膜的微观结构和表面形貌,利用显微硬度仪和划痕仪测量了薄膜的硬度和膜基结合力.研究结果表明:随着调制比的增大,TiN(200)逐渐消失,出现Ti2N等新相;硬度、结合力有明显增大的趋势,与单层膜相比,多层膜的硬度和结合力最多分别增加250 HV和22 N.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨波	东北大学材料各向异性与织构教育部重点实验室	38	152	6.0	10.0
2	肖娜	东北大学材料电磁过程研究教育部重点实验室	14	17	3.0	3.0
3	杜菲菲	东北大学材料各向异性与织构教育部重点实验室	5	15	3.0	3.0