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摘要:
目的:利用Hoechst33342/PI双染法和原位末端标记法(TUNEL染色检测纳米二氧化硅(nm-SiO2)对神经细胞凋亡的影响,比较两种检测方法的优缺点。方法:以体外培养的人神经母细胞瘤SK-N-SH为研究对象,15和30 nm粒径的nm-SiO2(剂量为2.5、5、10μg/mL)分别处理细胞24 h,另设1~5 m SiO2组和溶剂对照组,采用Hoechst33342/PI双染法和TUNEL染色检测各处理组对SK-N-SH细胞凋亡的影响。结果:与对照组相比,两种检测方法分析均显示了nm-SiO2处理组SK-N-SH细胞凋亡率显著增加(P<0.05),且具有尺寸、剂量依赖性,而微米级SiO2对凋亡的影响不显著(P>0.05)。结论:nm-SiO2能诱导SK-N-SH细胞凋亡。Hoechst33342/PI双染法特异性高,简单易行;TUNEL法灵敏度高,能检测少量的细胞凋亡,但成本较高,两种方法可结合使用以便更加准确的检测神经细胞的凋亡。)μ
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文献信息
篇名 Hoechst33342/PI双染法和TUNEL染色技术检测神经细胞凋亡的对比研究
来源期刊 癌变·畸变·突变 学科 医学
关键词 纳米二氧化硅 神经细胞 凋亡 Hoechst33342/PI双染 TUNEL
年,卷(期) 2014,(3) 所属期刊栏目 论著
研究方向 页码范围 180-184
页数 5页 分类号 R318.08
字数 3676字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-616x.2014.03.005
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 刘建军 深圳市疾病预防控制中心深圳市现代毒理学重点实验室 130 729 13.0 21.0
2 田生礼 深圳大学生命科学学院生物化学与分子生物学教研室 19 136 6.0 11.0
3 杨细飞 深圳市疾病预防控制中心深圳市现代毒理学重点实验室 16 56 4.0 7.0
4 贺春娥 深圳市疾病预防控制中心深圳市现代毒理学重点实验室 1 26 1.0 1.0
8 汤瑞华 深圳市疾病预防控制中心深圳市现代毒理学重点实验室 1 26 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
纳米二氧化硅
神经细胞
凋亡
Hoechst33342/PI双染
TUNEL
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
癌变·畸变·突变
双月刊
1004-616X
44-1063/R
大16开
广东省汕头市新陵路22号汕头大学医学院内
80-285
1989
chi
出版文献量(篇)
2510
总下载数(次)
3
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