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摘要:
基于集总式互连线功耗模型,给出了一种分布式动态功耗表达式,在此基础上,采用非均匀互连线结构,提出了一种基于延时、带宽、面积、最小线宽和最小线间距约束的互连动态功耗优化模型。并在90 nm和65 nm CMOS工艺节点下,采用matlab软件验证了文中模型的有效性,在工艺约束下,同时不牺牲延时、带宽和面积时,所提模型能够降低30%左右的互连线功耗。该模型适用于大规模集成电路互连优化设计。
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文献信息
篇名 一种新型分布式互连线功耗优化模型
来源期刊 西安电子科技大学学报(自然科学版) 学科 工学
关键词 集总式互连 分布式互连 功耗优化模型 非均匀互连线
年,卷(期) 2014,(4) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 36-40,192
页数 6页 分类号 TN402
字数 4246字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-2400.2014.04.007
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 杨银堂 西安电子科技大学宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室 420 2932 23.0 32.0
2 张岩 西安电子科技大学宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室 4 22 4.0 4.0
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研究主题发展历程
节点文献
集总式互连
分布式互连
功耗优化模型
非均匀互连线
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
西安电子科技大学学报(自然科学版)
双月刊
1001-2400
61-1076/TN
西安市太白南路2号349信箱
chi
出版文献量(篇)
4652
总下载数(次)
5
总被引数(次)
38780
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