晶体硅表面制绒参数优化分析

• 作者: 种法力
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 单晶硅 制绒 反射率
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 所属期刊栏目: 应用技术 Applied Technology
• 页码范围: 87-90
• 页数: 4页
• 分类号: TM914.4
• 字数: 2062字
• 语种: 中文

摘要

目的：研究酸(HF 和 HNO3)、碱(NaOH)腐蚀液对晶体硅制绒的影响。方法通过改变 NaOH浓度、异丙醇浓度、腐蚀时间研究单晶硅片腐蚀,通过改变酸溶液浓度比研究多晶硅片腐蚀,通过分析微观形貌及表面反射率等考察制备晶体硅制绒工艺参数。结果单晶硅最佳的腐蚀液配比为：NaOH 质量浓度15 g / L,热碱温度80℃,异丙醇体积分数15%~20%,腐蚀时间10 min。在最优化参数下,晶体硅绒表面金字塔大小均匀,高度约为5μm,相邻金字塔间彼此相连,硅表面反射率降低至15%。在 V(HF)：V(HNO3)： V(CH3 COOH)=10：1：10,腐蚀速率为2μm/ min 时,晶体硅绒表面呈现较好的沟壑状绒面结构。结论溶液酸碱性的强弱和异丙醇对晶体硅制绒有较大影响,并且直接影响晶体硅的表面反射率。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	种法力		28	70	4.0	7.0