基于DOE与RSM提升半导体测试良品率的方法

• 作者: 刁维虎
• 来源期刊: 中国集成电路
• 关键词: DOE RSM 高端驱动限制电流 微调
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 所属期刊栏目: 测试
• 页码范围: 54-58
• 页数: 5页
• 字数: 2136字
• 语种: 中文

摘要

通过DOE与RSM的方法,利用Minitab软件,对IC测试参数进行优化.本文以F芯片的高端驱动限制电流为例,利用DOE与RSM对高端驱动限制电流测试项建立生产测试模型,对限制电流微调参数进行优化,从而改善了高端驱动限制电流的质量特性,提升了芯片良品率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刁维虎		3	5	2.0	2.0