Bi-2223带材在自场和外场条件下电流密度分布的数值分析

• 作者: 王晖 王磊 王秋良
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 工学
• 关键词: Bi-2223带材 横向磁场 传导电流 电流密度分布
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 755-761
• 分类号: TL62|TM152
• 语种: 中文
• DOI: 10.13373/j.cnki.cjrm.2014.05.003

摘要

Bi-2223超导带材是一种具有较高载流能力的高温超导材料,被广泛用来制造高场强的内插磁体以及核磁共振(NMR),磁头振成象(MRI)等核磁共振设备.在超导磁体的设计以及交流损耗的计算中,不可避免地会涉及到Bi-2223带材中电流密度的分布.基于Brandt数值分析的方法,考虑了自场和外场对于临界电流密度的影响,利用Matlab对Bi-2223带材截面的电流密度分布进行了计算.为了便于仿真计算,用实验测得的临界电流与磁场关系的数据代替了Kim模型和Bean模型.在计算中主要施加了3种外加条件:(1)只施加横向磁场;(2)只通入传导电流;(3)将通入传导电流的带材放置于背景场中.结果显示,当Im＜ 20 A或者Bm ＜100 mT时,Bi-2223带材中电流密度随着传导电流和外场的幅值增加而增长;当Im＞ 20 A或者Bm＞ 100 mT时,Bi-2223带材中电流密度的最大值随着传导电流和外场的幅值增加而减小;屏蔽电流会随着外磁场的频率增加而减小,传导电流的频率对于电流分布的影响可以忽略不计;当通入传导电流的Bi-2223带材放置于背景场中时,电流密度的分布相对于中心不再对称,并且饱和电流值会随着外磁场的幅值增加而减小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王秋良	中国科学院电工研究所应用超导重点实验室	135	676	12.0	17.0
2	王磊	中国科学院电工研究所应用超导重点实验室	346	2763	24.0	41.0
6	王晖	中国科学院电工研究所应用超导重点实验室	46	339	10.0	17.0