Ni/Ti 多层膜界面状态优化分析

• 作者: 严彪杰 张向东 杨飞龙 白彬
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 中子超镜 Ni/ Ti 多层膜 粗糙度 离子抛光 反应溅射
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 所属期刊栏目: 研究与探索 Research and Exploration
• 页码范围: 47-50,86
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.442
• 字数: 2591字
• 语种: 中文

摘要

目的：减小 Ni/ Ti 多层膜表面粗糙度,提高 Ni/ Ti 多层膜对中子束的反射率。方法采用离子束辅助沉积设备沉积 Ni/ Ti 周期性多层膜,通过不同抛光时间和不同离子能量轰击对多层膜界面进行清洗抛光；采用反应溅射法,在镀 Ti 层时使用氢气和氩气混合气为工作气体,将 H 原子掺入 Ti 层以改变晶粒结构而影响多层膜界面状态。结果随着辅助离子源功率的增加,Ni/ Ti 多层膜的表面粗糙度增加；在合适的离子能量下,随着抛光时间的不断增加,Ni/ Ti 多层膜的表面粗糙度逐渐减小。 Ti 层中掺 H 的Ni/ Ti多层膜比未掺 H 的多层膜表面粗糙度小,界面更加清晰。结论低能量的离子轰击条件下,适当的抛光时间能对多层膜实现较好的抛光效果。 Ti 层中掺入 H 原子,抑制了 Ni 原子与 Ti 原子的扩散,减小了 Ti 膜层晶粒大小,从而抑制了表面粗糙度的增加。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张向东		5	6	2.0	2.0
2	白彬		15	38	4.0	5.0
3	严彪杰		2	3	1.0	1.0
4	杨飞龙		3	8	2.0	2.0