立方Y2O3薄膜结构、力学及光学性能的研究

• 作者: 刘金龙 朱瑞华 李成明 王猛 陈良贤 魏俊俊 黑立富
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: Y2O3薄膜 射频磁控 缺陷
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 页码范围: 25-30
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.4|TB34
• 字数: 3892字
• 语种: 中文

摘要

采用射频磁控溅射法在本征(100)Si片上和CVD金刚石膜上制备了立方(222)择优取向的Y2O3薄膜,应用AFM观察薄膜的三维形貌表明薄膜表面晶粒致密,缺陷较少,表面粗糙度为8.7 nm;TEM表征薄膜微观结构,表明薄膜为柱状晶结构,柱状晶宽度10～20 nm,而且晶界明显,部分较大晶粒中存在些许位错缺陷;纳米力学探针和划痕仪表征薄膜的力学性能,表明薄膜硬度为20.73 GPa,弹性模量为227.5 GPa,可作为金刚石膜的抗氧化保护膜,并且与金刚石膜的结合较好,结合力约为5N;FHR对薄膜的光学性能进行分析,表明双面立方Y2O3薄膜对金刚石膜的最大增透为23％,基本符合Y2O3的理论增透效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	魏俊俊	北京科技大学新材料技术研究院	32	112	5.0	9.0
2	黑立富	北京科技大学新材料技术研究院	39	153	6.0	10.0
3	李成明	北京科技大学新材料技术研究院	71	480	12.0	19.0
4	陈良贤	北京科技大学新材料技术研究院	34	69	4.0	5.0
5	刘金龙	北京科技大学新材料技术研究院	34	82	5.0	7.0
6	朱瑞华	北京科技大学新材料技术研究院	2	15	2.0	2.0
7	王猛	北京科技大学新材料技术研究院	11	56	5.0	7.0