离子束辅助沉积(IAD)镀制抗电磁干扰与减反射复合薄膜

• 作者: 杨伟声
• 来源期刊: 光学技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 离子束辅助沉积(IAD) 抗电磁干扰镀层 减反射薄膜 复合薄膜
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 所属期刊栏目: 薄膜光学
• 页码范围: 75-78
• 分类号: O484.4+3
• 语种: 中文

摘要

在K9玻璃基底上将两种物理性能完全不同的薄膜形成组合膜系层,实现了抗电磁干扰、高透光的效果.技术指标为:在400nm-1100nm宽波段范围平均透光率不低于90％;为达到良好的抗电磁干扰屏蔽效果,抗电磁屏蔽其方块电阻值为4±0.5Ω/口.为满足设计技术指标要求,计算设计了抗电磁干扰与减反射复合膜系结构,进行了镀膜工艺实验.实验结果表明,通过采用离子束辅助沉积工艺技术,可改善光学薄膜的微观结构,进而提高了复合薄膜的光学、物理性能和膜层的稳定性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨伟声		4	6	2.0	2.0