窄分布双氢基封端硅氧烷低聚物的合成

• 作者: 原华 周楠 张志斌 李涛
• 来源期刊: 有机硅材料
• 学科: 工学
• 关键词: 端氢基聚硅氧烷 摩尔质量分布系数 特性黏数 1,1,3,3-四甲基二氢基二硅氧烷
• 年，卷（期）: 2014,（2）
• 页码范围: 77-83
• 页数: 7页
• 分类号: TQ264.1+4
• 字数: 3815字
• 语种: 中文

摘要

以八甲基环四硅氧烷、1，1，3，3-四甲基二氢基二硅氧烷（俗称含氢双封头）为原料，以浓硫酸为催化剂，采用平衡聚合的方法制备了不同摩尔质量的双氢基封端硅氧烷低聚物（HMDn MH）。采用红外光谱、核磁共振氢谱、凝胶渗透色谱、气相色谱等分析方法对产物结构进行了确认和表征。研究了反应温度、反应时间、催化剂用量等对反应的影响。较佳反应条件为：平衡反应温度35℃、浓硫酸质量分数1.5％、反应时间6 h。在此条件下可获得较高收率的窄摩尔质量分布（1.22～1.39）的HMDn MH。D4和HMMH的质量比影响产物的摩尔质量。D4含量越高（或HMMH含量越低）则产物的摩尔质量越大，且与设计值之间的偏差越大。HMDn MH的特性黏数与数均摩尔质量的自然对数之间呈线性关系，其相关系数为R2＝0.994，相关性极好。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李涛	西南交通大学生命科学与工程学院	62	535	13.0	20.0
2	张志斌	西南交通大学生命科学与工程学院	91	790	14.0	23.0
3	周楠		14	94	4.0	9.0
4	原华		4	44	2.0	4.0