半导体放电加工中接触电阻的影响因素研究

• 作者: 刘少学 吴春艳 陆亦工 高长水
• 来源期刊: 机电一体化
• 关键词: 半导体放电加工 接触电阻 研究
• 年，卷（期）: 2014,（11）
• 所属期刊栏目: 研究·开发
• 页码范围: 43-46,70
• 页数: 5页
• 字数: 2446字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-080x.2014.11.009

摘要

从理论上分析了产生接触电阻的原因,建立了切割回路中的导电原理模型.分析了如进电方式、进电材料、接触压力等因素对接触电阻的影响.实验结果表明:选择进电材料时,进电材料的功函数与所要加工的半导体的功函数尽量接近;选择接触形式,两个材料接触时要形成面接触,同时在允许的范围内尽量增大接触压力来减小接触间隙,这样会得到更小的接触电阻.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高长水	南京航空航天大学机电学院	69	323	10.0	14.0
2	吴春艳	新疆工程学院电气与信息工程系	7	16	2.0	4.0
3	陆亦工	新疆工程学院电气与信息工程系	8	12	2.0	2.0