光栅尺光刻过程中的热辐射模拟分析

• 作者: 尹存宏 张家龙 梁生根
• 来源期刊: 现代机械
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻 Matlab 热辐射 数据模拟分析 等距性 温度梯度
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 所属期刊栏目: 现代制造、工艺装备
• 页码范围: 5-7
• 页数: 3页
• 分类号: TH822
• 字数: 1353字
• 语种: 中文

摘要

国产光栅尺的动态性能和精度均达不到数控机床的要求,而影响光栅尺精度的关键步骤是光刻,光刻过程中的影响因素包括机床安装的垂直度和抗干扰度,机床轨道的表面精度和水平度以及环境温度等等,其中对环境温度影响却少有研究.为了能更好的提高光栅尺的精度,本文基于Matlab对光刻过程中的曝光灯热辐射做了数据模拟分析,发现曝光灯的热辐射对光刻时的子光栅刻度等距性有很大影响,而控制这个热辐射数值目前在国内可行性更高,因为无论对于这个控制系统的复杂程度还是所需成本,相比于高精度的温度梯度微环境控制,都有一定的优越性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	尹存宏	贵州大学机械工程学院	12	44	3.0	6.0
2	梁生根	贵州大学机械工程学院	1	0	0.0	0.0
3	张家龙	贵州大学机械工程学院	2	0	0.0	0.0