La掺杂SiO2/TiO2纳米粉体的制备及其光催化性能

• 作者: 司华艳 孙秀果 彭政 李艳廷 杨民力 王育华
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 化学
• 关键词: TiO2 La-SiO2/TiO2 光催化降解 稀土
• 年，卷（期）: 2014,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 392-397
• 分类号: O643
• 语种: 中文
• DOI: 10.13373/j.cnki.cjrm.2014.03.008

摘要

采用并流中和法制备了La掺杂的SiO2包覆TiO2纳米粒子,利用X射线衍射(XRD),傅立叶交换红外光谱(FT-IR),透射电镜(TEM)及紫外可见光吸收(UV-Vis)光谱对掺杂改性前后样品进行表征.以紫外光照降解甲基橙为测试体系,研究了La掺杂量及煅烧温度对SiO2/TiO2光催化性能的影响,并对其作用机制做了初步的探讨.FT-IR表明在包覆层和纳米TiO2颗粒之间的界面上形成了Ti-O-Si和Ti-O-La键,从而抑制了金红石相的形成,提高了热稳定性,和XRD分析结果一致,掺杂了La的SiO2/TiO2在800℃时金红石相的含量仍然比较低,和120℃时的含量相当;TEM照片显示改性后的TiO2团聚减小,粒度均匀.UV-Vis光谱分析显示La掺杂SiO2/TiO2的光响应范围拓宽至可见光区,其中光吸收红移最大的样品为3.0％La掺杂量的SiO2/TiO2,带隙能(Eg)由原来的2.98 eV降为为2.41 eV.光催化性能实验结果显示当La的摩尔掺杂量为3 0％时,其光催化活性最好,光照20 min,与未掺杂改性的TiO2相比甲基橙的光降解率提高了55 1％;另外,未掺杂TiO2煅烧温度对光催化影响显著,当温度由120 ℃增加为800℃时,光照25 min的降解率就由69％降为10.7％,而掺La的SiO2/TiO2煅烧温度对其光催化性能影响不大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李艳廷	石家庄铁道大学材料科学与工程学院	6	83	4.0	6.0
2	彭政	石家庄铁道大学材料科学与工程学院	13	104	7.0	10.0
3	司华艳	石家庄铁道大学材料科学与工程学院	7	25	2.0	5.0
4	王育华	石家庄铁道大学材料科学与工程学院	12	53	4.0	7.0
5	孙秀果	石家庄铁道大学材料科学与工程学院	18	314	11.0	17.0
9	杨民力	石家庄铁道大学材料科学与工程学院	4	24	2.0	4.0