碳材料表面沉积硅化物的研究

• 作者: 唐建新 张铭霞 李传山 杜斌 王重海 高军
• 来源期刊: 现代技术陶瓷
• 关键词: 碳材料 涂层 化学液相沉积 硅化物
• 年，卷（期）: 2014,（6）
• 所属期刊栏目: 科研与探讨
• 页码范围: 13-19
• 页数: 7页
• 字数: 3658字
• 语种: 中文

摘要

采用化学液相沉积工艺（RCLD），在碳材料表面快速附着一层结合紧密、致密均匀的硅化物涂层，研究了不同直径的预制体表面处理以及电压和电流等对碳材料外部硅化物层结构和性能的影响。结果表明，经王水腐蚀的石墨表面粗糙化，有利于沉积层的生成和附着；预制体的直径为7mm、电压为52V、电流为60A时的抗氧化沉积层具有较好的性能。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王重海		44	364	10.0	17.0
2	高军		52	226	8.0	13.0
3	张铭霞		18	114	7.0	10.0
4	唐建新		6	15	2.0	3.0
6	李传山		5	32	3.0	5.0
7	杜斌		6	31	3.0	5.0