放置方向和沉积时间对 Ti 大颗粒分布状态的影响

• 作者: 田修波 蒋志强 魏永强 魏永辉
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 电弧离子镀 TiN 大颗粒 放置方向 沉积时间
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 所属期刊栏目: 研究与探索 Research and Exploration
• 页码范围: 6-10,41
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 2802字
• 语种: 中文

摘要

目的：研究基体表面和靶表面不同放置方向以及沉积时间对 Ti 大颗粒形貌和分布规律的影响。方法利用电弧离子镀方法在基体上制备 TiN 薄膜,采用扫描电子显微镜观察 TiN 薄膜的表面形貌,利用 ImageJ 图像软件对 TiN 薄膜表面中 Ti 大颗粒的数目和尺寸进行分析。结果靶基间距保持25 cm,当基体表面与靶表面垂直放置时,薄膜表面的大颗粒数目和所占面积比比平行放置时要少,同时出现了典型的长条状大颗粒；随着沉积时间从5 min 增加到50 min,大颗粒数目和所占面积比出现先减小后增加的趋势。结论选择基体表面与靶表面垂直放置,沉积时间为30~40 min 时,薄膜的沉积厚度和减少大颗粒缺陷可以兼顾。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋志强	郑州航空工业管理学院机电工程学院	98	734	11.0	24.0
3	魏永强	郑州航空工业管理学院机电工程学院	16	57	4.0	7.0
12	魏永辉	郑州航空工业管理学院机电工程学院	19	93	5.0	9.0