硫酸-磷酸-铬酸电化学抛光对钼片表面状态的影响

• 作者: 伍智 李剑 杨卫英 陈虎
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 钼 电化学抛光 表面形貌 粗糙度 几何尺寸
• 年，卷（期）: 2014,（4）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 155-157
• 页数: 3页
• 分类号: TQ153.5
• 字数: 2276字
• 语种: 中文

摘要

以硫酸-磷酸铬酸体系为电解液,对钼片进行电化学抛光.通过测定阴极极化曲线,研究了抛光过程中电压和电流之间的关系.表征了抛光前后钼片的微观形貌、粗糙度和尺寸等.在2.0 A/cm2下对钼片电化学抛光30 s,可得到均匀平整、无明显坑点的表面,粗糙度由抛光前的0.20 μm降至0.05μm.通过严格控制抛光时间可有效保证样品的几何尺寸精度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李剑	中国工程物理研究院电子工程研究所	40	158	8.0	11.0
2	伍智	中国工程物理研究院电子工程研究所	12	23	3.0	4.0
3	杨卫英	中国工程物理研究院电子工程研究所	13	54	3.0	7.0
4	陈虎	中国工程物理研究院电子工程研究所	10	15	2.0	3.0