钼靶材变形量及热处理对薄膜微观组织及性能的影响

• 作者: 刘仁智 孙院军 王快社
• 来源期刊: 粉末冶金技术
• 关键词: 钼 靶材 微观组织 溅射 性能
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 328-334,351
• 页数: 8页
• 字数: 3188字
• 语种: 中文

摘要

通过研究靶材变形量及热处理工艺对溅射薄膜的微观组织、表面粗糙度及晶形的影响,结果表明:变形量为80％的钼靶材溅射制备的薄膜晶化程度优于变形量小的靶材溅射薄膜;溅射相同的薄膜厚度,随着靶材变形量的增大,溅射薄膜的方阻越大;1100℃退火靶材溅射薄膜的粗糙度最小,表面颗粒最细小均匀,晶粒取向明显.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王快社		190	1442	20.0	25.0
2	孙院军	金堆城钼业股份有限公司技术中心	25	267	9.0	15.0
3	刘仁智		46	221	7.0	11.0