355 nm 紫外激光抛光 Al2O3陶瓷工艺的研究

• 作者: 周敏 胡伟 谢小柱 魏昕
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 工学
• 关键词: 激光技术 激光抛光 激光能量密度 激光扫描速率 激光扫描间距 Al2O3陶瓷
• 年，卷（期）: 2014,（4）
• 所属期刊栏目: 激光与光电子技术应用
• 页码范围: 556-560
• 页数: 5页
• 分类号: TN249
• 字数: 1843字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2014.04.024

摘要

紫外激光抛光Al2 O3陶瓷可以有效地降低加工中的热影响区、防止微裂纹的产生。为了得到不同激光工艺参量（激光能量密度、扫描速率、扫描间隔）对Al2 O3陶瓷抛光表面粗糙度的影响规律，采用单因素实验方法进行了355nm紫外激光抛光Al2 O3陶瓷的工艺实验，获得了最优的工艺参量范围。结果表明，当激光能量密度为6J/cm2、扫描间隔为2μm、扫描速率为60mm/s时，抛光后分别获得了较小的表面粗糙度值。这一结果对获得的低粗糙度、高质量的Al2 O3陶瓷抛光表面具有指导意义。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢小柱	广东工业大学机电工程学院	73	422	11.0	16.0
2	胡伟	广东工业大学机电工程学院	57	313	10.0	14.0
3	魏昕	广东工业大学机电工程学院	111	782	15.0	22.0
4	周敏	广东工业大学机电工程学院	10	41	4.0	6.0