国内专利申请文件撰写中的公开不充分问题及答复技巧

• 作者: 刘宇雄 石浩 黄军生
• 来源期刊: 中国发明与专利
• 关键词: 公开充分 专利申请 统计分析 答复技巧
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 所属期刊栏目: 审查实践与研究
• 页码范围: 90-93
• 页数: 4页
• 字数: 5513字
• 语种: 中文

摘要

本文以专利申请撰写中存在的公开不充分状况的统计数据为依据,从三组正反案例出发,详细探讨了申请人在撰写申请时如何实现维护自身权益与满足说明书充分公开的平衡,以及面对公开不充分质疑时的答复技巧.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	石浩	国家知识产权局专利局专利审查协作北京中心审业部	5	9	2.0	2.0
2	黄军生	国家知识产权局专利局专利审查协作北京中心审业部	2	1	1.0	1.0
3	刘宇雄	国家知识产权局专利局专利审查协作北京中心审业部	6	5	1.0	2.0