(Ni-P)-SiO2化学复合镀液中分散剂的研究

• 作者: 徐娟 杨晓超 郭祥峰 陈尔跃
• 来源期刊: 电镀与精饰
• 学科: 工学
• 关键词: (Ni-P)-SiO2 化学复合镀 分散剂 纳米SiO2 镀层
• 年，卷（期）: 2014,（10）
• 所属期刊栏目: 新技术新工艺
• 页码范围: 12-16
• 页数: 5页
• 分类号: TQ153.2
• 字数: 3554字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3849.2014.10.004

摘要

在铜表面上的(Ni-P)-SiO2化学复合镀中,将Al2(SO4)、CoSO4和CrCl3作为纳米SiO2分散剂添加到镀液中.由分光光度计测定发现少量金属盐对纳米SiO2粒子在镀液中的分散稳定性均有一定程度提高.通过光电子能谱检测发现,Al2(SO4)3作为纳米SiO2分散剂的(Ni-P)-SiO2化学复合镀层中纳米SiO2沉积效果优于其他分散剂.0～8nm深度刻蚀检测表明镀层中纳米SiO2质量分数稳定.实验表明,以Al2(SO4)3作为分散剂最佳质量浓度为3.06～ 4.08 g/L.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭祥峰	齐齐哈尔大学化学与化学工程学院	96	645	14.0	20.0
2	陈尔跃	齐齐哈尔大学化学与化学工程学院	10	38	3.0	5.0
3	杨晓超	齐齐哈尔大学化学与化学工程学院	4	16	3.0	4.0
4	徐娟	齐齐哈尔大学化学与化学工程学院	7	18	3.0	4.0