浴法抛光中抛光粉粒径对去除效果影响的试验研究

• 作者: 张杨 张蓉竹 徐清兰 陈梅
• 来源期刊: 光学技术
• 学科: 工学
• 关键词: 浴法抛光 抛光粉粒径 抛光粉均匀性 表面粗糙度 去除速率
• 年，卷（期）: 2014,（6）
• 所属期刊栏目: 光学工艺
• 页码范围: 486-491
• 分类号: TG58
• 语种: 中文

摘要

为了分析抛光粉粒径对材料去除效果的影响,选用不同的平均粒径以及不同比例混合氧化铈抛光粉分别对K9玻璃进行了抛光试验.对抛光后的工件表面粗糙度及去除量进行了定量研究.结果表明,在试验条件相同的情况下,不同平均粒径的抛光粉,粒径越小,抛光后的元件表面粗糙度越好.从使用不同比例的混合抛光粉试验中可以看出,粒度的均匀性是影响工件表面粗糙度的重要因素.结合抛光粉粒度分布图和试验结果可以看出,抛光粉粒子的分布范围越小,以及各粒径大小分布在峰值附近的粒子所占体积百分比越接近,加工后的工件表面粗糙度越小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈梅	四川大学电子信息学院	35	77	5.0	6.0
2	徐清兰	中国科学院光电技术研究所	7	66	3.0	7.0
3	张蓉竹	四川大学电子信息学院	107	573	10.0	20.0
4	张杨	四川大学电子信息学院	21	123	5.0	10.0